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      首页 - 产品展示 - 去光阻液产品中心
      产品名称产品外观密度pH(3%)用途及使用方法产品特点
      ASTP100无色至淡黄色透明液体1.00-1.1011.0-12.0用于蓝宝石衬底芯片及PSS片的去胶;浸泡或超声下原液使用,温度80-85℃。(1)碱性有机体系; (2)对Al,GaAs不腐蚀;
      ASTP120无色至淡黄色透明液体1.00-1.1011.0-12.0用于蓝宝石衬底芯片及PSS片的去胶;浸泡或超声下原液使用,温度80-85℃。(1)碱性有机体系; (2)对Al,GaAs不腐蚀; (3)去胶寿命长;
      ASTP130无色透明液体1.00~1.1011.0~12.0用于半导体和 LED 芯片正性和负性光刻胶的去除清洗能力强,正性和负性胶通用。与 Al、GaAs和 AGIP有良好的相容性,使用寿命长
      ASTP150无色至淡黄色透明液体1.00-1.1011.0-12.0用于蓝宝石和砷化镓衬底芯片的去胶;浸泡或超声下原液使用,温度80-85℃。(1)强碱性有机体系; (2)去胶能力强,高效去除ICP后的残胶;
      ASTP210无色至淡黄色透明液体1.05~1.1011.0~12.0用于半导体和 LED 芯片正性和负性光刻胶的去除清洗能力强,正性和负性胶通用。与 Al、GaAs和 AGIP有良好的相容性,使用寿命长
      ASTP300无色至淡黄色透明液体1.00~1.102.0~3.0用于半导体和 LED 芯片、PSS 片正性和负性光刻胶的去除清洗能力强,正性和负性胶通用。与 Al、GaAs和 AGIP有良好的相容性,使用寿命长
      ASTP316淡黄色透明液体1.00-1.102.0-3.0用于黄光GaAs芯片去胶;浸泡或超声下原液使用,温度80-85℃。(1)酸性有机体系; (2)对GaAs无腐蚀;
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